檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "電子工程系".dept (精準) and ckeyword.raw="快速熱退火"
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本論文中分為兩個部份,第一個部份我們利用本實驗室自行架設的中空陰極化學氣相沉積(Hollow Cathode Chemical Vapor Deposition)系統,在低溫下沉積薄膜,找出最佳製程…
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在本論文中,我們研究快速熱退火與多通道結構合併製程與鈍化技術對於多晶矽薄膜電晶體之影響,並提供一新穎的畫素補償電路與驅動方法。首先,我們研究快速熱退火與多通道結構合併製程對於薄膜電晶體電氣特性之改善…